Change of electronic structure of ultrathin film of indium tin oxide by “In situ” Ar+ ion non-reactive successive etching process
學年 114
學期 1
出版（發表）日期 2025-10-27
作品名稱 Change of electronic structure of ultrathin film of indium tin oxide by “In situ” Ar+ ion non-reactive successive etching process
作品名稱（其他語言）
著者 Sekhar Chandra Ray, Way-Faung Pong
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著錄名稱、卷期、頁數 Scientific Reports, Volume 15, Issue 1, page 37533
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收錄於 SCI
產學合作
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