教師資料查詢 | 類別: 會議論文 | 教師: 陳俊成 LUKE CHEN (瀏覽個人網頁)

標題:Fenton及Photo-Fenton分解含四環素水溶液之反應行為研究
學年
學期
發表日期2020/11/27
作品名稱Fenton及Photo-Fenton分解含四環素水溶液之反應行為研究
作品名稱(其他語言)
著者黃上權; 陳俊成; 申永順
作品所屬單位
出版者
會議名稱中華民國環境工程學會 2020廢水處理技術研討會
會議地點桃園市台灣
摘要高級氧化處理(AOPs)在環境污染物處理上之應用已相當成熟,常用以處理生物難降解有機物,本次研究應用Fenton及Photo-Fenton程序分解含四環素水溶液,對不同反應時間點之四環素去除率以HPLC分析,比較不同操作條件,並研究最佳四環素去除率。實驗結果顯示當氧化劑劑量足夠時,反應10至20分鐘即可達到完全降解,並且Photo-Fenton系統之整體去除效率皆優於Fenton系統。光強度於Photo-Fenton程序皆呈現強度愈強其去除四環素效果愈佳之趨勢,但是並沒有太明顯的差異。四環素初始濃度影響著UV光催化氧化劑之能力,高濃度的四環素除了會產生光遮蔽效應,還會減少氧化劑與鐵離子的碰撞反應,間接導致氧化劑之催化反應受阻,使四環素之去除效率下降。pH於Fenton及Photo-Fenton系統降解四環素中扮演著重要角色,實驗結果顯示,當pH2.5上升至pH5,四環素降解率隨之提升。
關鍵字高級氧化程序;過氧化氫;四環素;Fenton
語言中文
收錄於
會議性質國內
校內研討會地點
研討會時間20201127~20201128
通訊作者黃上權
國別中華民國
公開徵稿
出版型式
出處
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