非線性漣漪結構的製造與應用
學年 101
學期 1
出版（發表）日期 2012-08-01
作品名稱 非線性漣漪結構的製造與應用
作品名稱（其他語言） Fabrication and Application of Nonlinear Ripple Structures
著者 林清彬
單位 淡江大學機械與機電工程學系
描述 計畫編號：NSC101-2221-E032-015
 研究期間：201208~201307
 研究經費：630,000
委託單位 行政院國家科學委員會
摘要 Surface wrinkling and rippling are critical issues of many technologically significant applications and thus attracted considerable attention. Based on some researchers have been revealed that the buckling of a stiff layer resting on a compliant substrate, but no related literature explore experimental validation and application of the nonlinear ripple structure. The present project further purpose two innovative methodologies to fabricate the nonlinear ripple structure with periodically arrangement and probe its formation mechanism and property. To demonstrate the potential application of the wrinkle and the nonlinear ripple structure, we provide an innovative technology to fabricate a hydrophobic thin film inspired by the nano/micro-structures on lotus leaves and mosquito legs. 除了皺波結構外，極少文獻提出俱週期非線性漣漪結構的製造及探討其形成機 制和應用，因此本研究計畫進一步提出兩種俱週期非線性漣漪結構的新穎製造 方法，並藉由鎳電鑄技術、鎳金屬表面奈米化處理及轉印技術，製得俱雙維尺 度疏水性的薄膜，並探討線性與皺波結構及俱週期非線性漣漪結構尺度與維度 對潤濕性的影響。(第一年)將E7 液晶分子均勻加入含有適量交鏈劑的聚二甲基 矽氧烷預聚合物中，利用旋轉塗佈及熱固化形成薄膜。藉由拉伸應力的施加， 將薄膜基材中的E7 液晶分子給予偏轉並產生一優選方位的排向後，固定其拉伸 應變，接著將金屬鍍著在薄膜後，給予應變回復，藉由優選方位排向之E7 液晶 分子的回復，在自我組裝形成過程中，改變漣漪結構的排列，而形成一種俱週 期性之非線性漣漪結構。(第二年)藉由應力拉伸法將金屬鍍著在固定拉伸應變的 聚二甲基矽氧烷薄膜上，給予應變回復後，表面形成俱週期性之線性漣漪結構 之PDMS*薄膜。接著使用不同楊氏係數PDMS 溶膠及轉印製程翻製相同波長之 漣漪結構之PDMS**薄膜，接著在PDMS**薄膜上，施加與PDMS*薄膜表面上漣 漪結構不同方向的應變(包括平行與垂直)，接著將金屬鍍著在該固定拉伸應變的 PDMS**薄膜上，給予應變回復後，藉由自我組裝過程，利用第一次與第二次兩 種不同特徵尺寸及方位的漣漪結構之交互作用，形成一種特殊俱週期性之非線 性漣漪結構。(第三年)藉由先前研究製得的線性漣漪與皺波結構及本研究製得的 非線性漣漪結構給予電鑄成具線性與非線性漣漪結構之鎳模仁，接著藉由鎳模 仁的特殊的表面奈米化處理技術，再次在鎳模仁表面形成第二種維度的奈米尺 寸結構，最後再藉由壓印技術製得疏水性的PDMS 彈性體薄膜，衍生的相關技 術可提供給工業界之應用參考。
關鍵字 聚二甲基矽氧烷; 拉伸; 皺波結構; 液晶; 非線性漣漪結構; 疏水性; 電鑄; poly (dimethyl siloxane); wrinkle; nonlinear ripple structure; hydrophobic
語言 zh_TW
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