| 晶圓片光阻劑塗抹厚度之灰預測研究 | |
|---|---|
| 學年 | 90 |
| 學期 | 1 |
| 發表日期 | 2001-10-25 |
| 作品名稱 | 晶圓片光阻劑塗抹厚度之灰預測研究 |
| 作品名稱（其他語言） | |
| 著者 | 彭嵐霖; 井民安; 楊智旭 |
| 作品所屬單位 | 淡江大學機械與機電工程學系 |
| 出版者 | 雲林縣斗六市 : 雲林科技大學水土資源及防災科技研究中心 |
| 會議名稱 | 灰色系統理論與應用學術研討會=The 2001 seminar of applied grey system theory |
| 會議地點 | 雲林縣, 臺灣 |
| 摘要 | 由於晶圓在塗抹光阻劑時，利用離心力對稱之特性將光阻劑塗抹其上，這往往對我們，難以去估測出光阻劑塗抹於晶圓上的膜厚。本文藉由灰預測理論，架構起晶圓在塗抹光阻劑時之灰色模型GMO. l) .以提供當塗抹光阻劑時，時間及轉速之決策參考。實驗擷取的數撮主要是利用離心力對稱特性，得出光阻劑塗抹晶國時的膜厚。在控制時間與轉速兩因子，分別來擷取光阻劑之平均膜厚。我們將得到的數據處理成有規則性、有條理性以用來架構灰色模型，並得出一組最佳化灰預測數據，以估測出光組劑之平均膜厚的差異。 |
| 關鍵字 | 晶圓片;光阻劑;灰預測;灰色模型GMO. l |
| 語言 | zh_TW |
| 收錄於 | |
| 會議性質 | 國內 |
| 校內研討會地點 | |
| 研討會時間 | 20011025~20011026 |
| 通訊作者 | 楊智旭 |
| 國別 | TWN |
| 公開徵稿 | Y |
| 出版型式 | 紙本 |
| 出處 | 2001年灰色系統理論與應用學術研討會論文集=The 2001 seminar of applied grey system theory，頁C120-125 |
| 相關連結 |
機構典藏連結 ( http://tkuir.lib.tku.edu.tw:8080/dspace/handle/987654321/98207 ) |
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