以精密電解削銳輪磨及反應離子蝕刻之複合製程快速加工鑽石膜之研究
學年 96
學期 1
發表日期 2007-11-23
作品名稱 以精密電解削銳輪磨及反應離子蝕刻之複合製程快速加工鑽石膜之研究
作品名稱(其他語言) Development of a Combined Process of Elid-Grinding and Rie for Rapidremoval of Cvd Diamond Film
著者 趙崇禮
作品所屬單位 淡江大學機械與機電工程學系
出版者
會議名稱 機械固力學門成果發表會
會議地點 臺北市, 臺灣
摘要 鑽石具有極佳的物理特性與化學特性如:高硬度、低摩擦係數、高熱傳導係數、良好的機械強度、高光學穿透性。這些特性具有潛力應用於電子元件、光學元件及抗腐蝕鍍膜上。近年來以化學氣相沉積法製作多晶鑽石膜已成為成熟且廣泛的合成技術。由於本計劃原規劃為兩年期之計畫,因僅通過第一年,故僅就反應離子蝕刻之複合製程快速加工鑽石膜進行研究。本計劃採用常壓空氣電漿(APAP)及反應離子蝕刻(RIE)方法來製作鑽石微結構,並且將鑽石微結構分別應用在熱化學拋光及奈米壓印上。並分別以穿隧式電子顯微鏡(TEM)、微拉曼頻譜儀(micro-Raman spectroscopy)、表面粗度儀(α-step)來檢測表面形貌與分析組成物。藉由分析結果發現鑽石微結構可成功應用於熱化學拋光,並且鑽石微結構具有應用於奈米壓印之潛力。 Diamond has many outstanding physical and chemical properties such as extreme hardness, low friction coefficient, high thermal conductivity, high mechanical strength, and high optical transparency. Therefore, several potential applications can be anticipated in electronics, optics, protective corrosion resistant coatings. In recent years, using chemical vapor deposition (CVD) methods to synthesize polycrystalline diamond is a mature and popular technology. This study not only indicated the producing mechanism of these microstructures on CVD diamond grains by atmospheric pressure air plasma (APAP) and reactive ion etching, but also used these microstructures applying to the thermal-chemical polishing and nano-imprint process. Scanning electron microscope, micro-Raman spectroscopy and alpha-step were used to study the surface morphology and component analysis, respectively. From the results showed that the microstructures could be successfully combined the thermal-chemical polishing method and these microstructures had a potential to apply in nano-imprint process.
關鍵字 CVD鑽石膜;反應離子蝕刻;空氣電漿;微結構;CVD diamond grain;RIE;Atmospheric pressure air plasma;Microstructure
語言 zh_TW
收錄於
會議性質 國內
校內研討會地點
研討會時間 20071123~20071123
通訊作者
國別 TWN
公開徵稿 Y
出版型式 紙本
出處 機械固力學門成果發表會論文集,10頁
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機構典藏連結 ( http://tkuir.lib.tku.edu.tw:8080/dspace/handle/987654321/96501 )

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