| Investigation of material removal mechanisms involved in ICP etching of InGaN/GaN | |
|---|---|
| 學年 | 92 |
| 學期 | 2 |
| 發表日期 | 2004-05-30 |
| 作品名稱 | Investigation of material removal mechanisms involved in ICP etching of InGaN/GaN |
| 作品名稱（其他語言） | |
| 著者 | 趙崇禮 |
| 作品所屬單位 | 淡江大學機械與機電工程學系 |
| 出版者 | |
| 會議名稱 | |
| 會議地點 | |
| 摘要 | |
| 關鍵字 | |
| 語言 | |
| 收錄於 | |
| 會議性質 | 國際 |
| 校內研討會地點 | |
| 研討會時間 | 20040530~20040603 |
| 通訊作者 | |
| 國別 | |
| 公開徵稿 | |
| 出版型式 | |
| 出處 | 第四屆歐洲精密工程及奈米工程學會國際研討會=4th euspen International Conference, Glasgow, United Kingdom |
| 相關連結 |
機構典藏連結 ( http://tkuir.lib.tku.edu.tw:8080/dspace/handle/987654321/70687 ) |
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