| Substrate current enhancement in 65 nm metal-oxide-silicon field-effect transistor under external mechanical stress | |
|---|---|
| 學年 | 97 |
| 學期 | 1 |
| 出版（發表）日期 | 2009-01-01 |
| 作品名稱 | Substrate current enhancement in 65 nm metal-oxide-silicon field-effect transistor under external mechanical stress |
| 作品名稱（其他語言） | |
| 著者 | Kuo, Y. J.; Chang, T. C.; 葉炳宏; Yeh, P. H.;Chen, S. C.; Dai, C. H.; Chao, C. H.; Young, T. F.; Cheng, Osbert; Huan, C. T. |
| 單位 | 淡江大學物理學系 |
| 出版者 | Elsevier |
| 著錄名稱、卷期、頁數 | Thin Solid Films 515(5), pp.1715–1718 |
| 摘要 | |
| 關鍵字 | Strained silicon;Uniaxial stress;MOSFETs;Impact ionization;Substrate current |
| 語言 | en |
| ISSN | 0040-6090 |
| 期刊性質 | 國外 |
| 收錄於 | |
| 產學合作 | |
| 通訊作者 | |
| 審稿制度 | |
| 國別 | |
| 公開徵稿 | |
| 出版型式 | |
| 相關連結 |
機構典藏連結 ( http://tkuir.lib.tku.edu.tw:8080/dspace/handle/987654321/74834 ) |
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