薄膜晶圓表面奈米金屬粒子之全場偏振散射光量測技術
學年 98
學期 1
出版（發表）日期 2010-01-01
作品名稱 薄膜晶圓表面奈米金屬粒子之全場偏振散射光量測技術
作品名稱（其他語言） Full Field Polarized Light-Scattering Measurements of Metallic Nanoparticles on a Thin Film Wafer
著者 劉承揚
單位 淡江大學機械與機電工程學系
描述 計畫編號：NSC99-2218-E032-003
委託單位 行政院國家科學委員會
摘要 在半導體工業的製程中，晶圓表面上奈米粒子和缺陷的檢測是非常重要的品質參數，而散射光量測技術是一個強而有力的技術可以用來量測晶圓表面上的特徵，其可以滿足半導體工業對於高生產率、高靈敏性之檢測儀器需求。晶圓表面的散射光會由許多散射源產生，例如微粒污染物、表面形貌粗糙度、加工後表面殘餘物和表面缺陷等，當光線打入這些表面特徵上時都會產生散射光，因此想要有效的分析散射光特性藉以來精確的分辨晶圓表面上奈米粒子的尺寸、形狀和材質是非常困難和複雜的。因為雙向反射分佈函數可以詳細的描述一個雷射光源入射到物體表面上時，物體表面特徵散射光的發散情況，所以它是一個有效的工具可以用來精準的分析物體表面特徵之散射光。 本計畫將使用散射理論和實驗量測來探討由晶圓表面上金屬奈米粒子所發出的全場偏振散射光和其角度相依性。本計畫將自行設計和架設一個多角度調整散射光儀來量測由不同粒徑大小的金屬奈米粒子在不同薄膜晶圓上所發出的散射光，分析其散射光之偏振特性，將量測實驗結果與理論計算結果比較。本計畫將採用米氏表面交互影響模型，來推導和計算金屬奈米粒子全場散射光的雙向橢圓參數之角度相依性，也就是雙向橢圓參數隨著散射光極角和方位角變化的情形，這些偏振特性可以用來更有效的分析附著在薄膜晶圓表面上金屬奈米粒子的尺寸大小，此研究結果將可有效解決半導體、平面顯示器工業中薄膜晶圓表面上奈米粒子的量測問題。
關鍵字 金屬奈米粒子; 薄膜; 散射光量測; Metallic nanoparticle; Thin film; Light-scattering measurement
語言 zh_TW
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