二進位沈積法用標準互補全氧半導體結構層製造光柵與微鏡片
學年 87
學期 2
發表日期 1999-06-01
作品名稱 二進位沈積法用標準互補全氧半導體結構層製造光柵與微鏡片
作品名稱（其他語言） Binary deposition method using standard CMOS sturctural layers to fabricate optical gratings and microlenses , Optical engineering for sensing and nanotechnology
著者 杜文謙
作品所屬單位 淡江大學機械與機電工程學系
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語言 zh_TW
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出處 光學工程感測與奈米技術
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