(PDMS/Au/PDMS)三層薄膜引發微波紋的形成及機制
學年 95
學期 1
出版（發表）日期 2007-01-01
作品名稱 (PDMS/Au/PDMS)三層薄膜引發微波紋的形成及機制
作品名稱（其他語言） Formation and Mechanism for Induced Microwave Patterns by 3 Layers(PDMS/AU/PDMS) Films
著者 林清彬
單位 淡江大學機械與機電工程學系
描述 研究期間：200708~200807 研究經費：515,000 計畫編號：NSC96-2221-E032-011-MY2
委託單位 行政院國家科學委員會
摘要 本研究提出新穎製程來製得漣漪結構，首先將在矽晶片上塗佈一層聚二 甲基矽氧烷(PDMS)薄膜給予拉伸及固定應變後，於薄膜表面濺鍍沈積 一層金鍍層；經應變回復後於薄膜表面形成漣漪結構。另外，大面積 漣漪結構在薄膜表面形成過程中，會在PDMS 彈性薄膜內強度較弱之 分子鏈結構與缺陷處，產生類差排、裂痕及排向表面裂縫等缺陷。本研究 第一年也探討拉伸應變、金鍍層厚度與應變回復量對漣漪結構、波 長和振幅之影響。另外，本研究亦嘗試在PDMS 彈性薄膜表面成 型出微流道浮雕(Base-relief)，施予雙軸向拉伸後，以治具給予拘束固 定，經鍍金後進行應變回復，使其於微流道兩側得到漣漪結構。研究中 我們也使用挫曲機械力學計算俱週期漣漪結構的薄膜之楊氏係數。 本研究第二年探討PMDS/Au/PDMS 三層薄膜給予拉伸及 固定應變後，經應變回復後，探討PMDS/Au/PDMS 三層薄膜的 挫曲現象，並提出一套機制與模型探討三層薄膜在未發生界面撥離 的狀況下產生挫曲現象所須之週期漣漪結構的臨界波長、臨界壓縮 應變及臨界壓縮應力。
關鍵字 聚二甲基矽氧烷;漣漪;皺波;拉伸;應變回復;挫曲
語言
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