| 平面研光加工路徑與應用研究 | |
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| 學年 | 88 | 
| 學期 | 1 | 
| 出版(發表)日期 | 2000-01-01 | 
| 作品名稱 | 平面研光加工路徑與應用研究 | 
| 作品名稱(其他語言) | Research of Flat Lapping Paths and Applications | 
| 著者 | 劉偉均; 陳炤彰 | 
| 單位 | 淡江大學機械與機電工程學系 | 
| 描述 | 計畫編號:NSC89-2212-E032-005 研究期間:199908~200007 研究經費:511,000 | 
| 委託單位 | 行政院國家科學委員會 | 
| 摘要 | |
| 關鍵字 | 研光;研光機;碎形路徑;化學機械拋光;Lapping;Lapping machine;Fractal toolpath;Chemical mechanical polishing (CMP) | 
| 語言 | |
| 相關連結 | 機構典藏連結 ( http://tkuir.lib.tku.edu.tw:8080/dspace/handle/987654321/7413 ) |