標題:Characteristics of proton-exchanged wet etching on z-cut nickel-indiffused lithium niobate |
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學年 | 86 |
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學期 | 2 |
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出版(發表)日期 | 1998/07/01 |
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作品名稱 | Characteristics of proton-exchanged wet etching on z-cut nickel-indiffused lithium niobate |
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作品名稱(其他語言) | |
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著者 | 張文清; Chang, Wen-ching; Chang, Shih-jung; Sue, Chao-yung; Hsu, Chia-lu |
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單位 | 淡江大學電機工程學系 |
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出版者 | Wiley-Blackwell |
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著錄名稱、卷期、頁數 | Microwave and optical technology letters 18(4), pp.250-252 |
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摘要 | In this letter, the wet etching technique is utilized to determine the proton exchange (PE) depth of z-cut nickel-indiffused lithium niobate under different nickel indiffusion parameters. It is demonstrated that the existence of nickel atoms reduces the PE depth. While this result was applied to the fabrication of a ridge-type waveguide, the tilt angle of the sidewall on the ridge waveguide was about 70°, which has been successfully increased. © 1998 John Wiley & Sons, Inc. Microwave Opt Technol Lett 18: 250–252, 1998. |
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關鍵字 | |
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語言 | 英文 |
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ISSN | 0895-2477 |
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期刊性質 | 國內 |
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收錄於 | |
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產學合作 | |
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通訊作者 | |
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審稿制度 | 否 |
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國別 | 中華民國 |
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公開徵稿 | |
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出版型式 | ,電子版 |
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相關連結 | |
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