| Electrochemical Impedance Spectroscopy of Copper during Electrochemical Polishing | |
|---|---|
| 學年 | 95 |
| 學期 | 1 |
| 發表日期 | 2006-11-26 |
| 作品名稱 | Electrochemical Impedance Spectroscopy of Copper during Electrochemical Polishing |
| 作品名稱（其他語言） | |
| 著者 | Cheng, T. W.; Hsu, C. J.; Chiu, Y. L. |
| 作品所屬單位 | 淡江大學化學工程與材料工程學系 |
| 出版者 | 台灣化學工程學會 |
| 會議名稱 | |
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| 會議性質 | |
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| 公開徵稿 | |
| 出版型式 | |
| 出處 | Chemical Engineering Annual Meeting, Kaohsiung, Taiwan, Kaohsiung, Taiwan |
| 相關連結 |
機構典藏連結 ( http://tkuir.lib.tku.edu.tw:8080/dspace/handle/987654321/70965 ) |
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