教師資料查詢 | 類別: 會議論文 | 教師: 楊智旭 YANG JR-SYU (瀏覽個人網頁)

標題:晶圓片光阻劑塗抹厚度之灰預測研究
學年90
學期1
發表日期2001/10/25
作品名稱晶圓片光阻劑塗抹厚度之灰預測研究
作品名稱(其他語言)
著者彭嵐霖; 井民安; 楊智旭
作品所屬單位淡江大學機械與機電工程學系
出版者雲林縣斗六市 : 雲林科技大學水土資源及防災科技研究中心
會議名稱灰色系統理論與應用學術研討會=The 2001 seminar of applied grey system theory
會議地點雲林縣, 臺灣
摘要由於晶圓在塗抹光阻劑時,利用離心力對稱之特性將光阻劑塗抹其上,這往往對我們,難以去估測出光阻劑塗抹於晶圓上的膜厚。本文藉由灰預測理論,架構起晶圓在塗抹光阻劑時之灰色模型GMO. l) .以提供當塗抹光阻劑時,時間及轉速之決策參考。實驗擷取的數撮主要是利用離心力對稱特性,得出光阻劑塗抹晶國時的膜厚。在控制時間與轉速兩因子,分別來擷取光阻劑之平均膜厚。我們將得到的數據處理成有規則性、有條理性以用來架構灰色模型,並得出一組最佳化灰預測數據,以估測出光組劑之平均膜厚的差異。
關鍵字晶圓片;光阻劑;灰預測;灰色模型GMO. l
語言中文
收錄於
會議性質國內
校內研討會地點
研討會時間20011025~20011026
通訊作者楊智旭
國別中華民國
公開徵稿Y
出版型式紙本
出處2001年灰色系統理論與應用學術研討會論文集=The 2001 seminar of applied grey system theory頁C120-125
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