會議論文
| 學年 | 109 |
|---|---|
| 學期 | 1 |
| 發表日期 | 2020-11-27 |
| 作品名稱 | Fenton及Photo-Fenton分解含四環素水溶液之反應行為研究 |
| 作品名稱（其他語言） | |
| 著者 | 黃上權; 陳俊成; 申永順 |
| 作品所屬單位 | |
| 出版者 | |
| 會議名稱 | 中華民國環境工程學會 2020廢水處理技術研討會 |
| 會議地點 | 桃園市，台灣 |
| 摘要 | 高級氧化處理(AOPs)在環境污染物處理上之應用已相當成熟，常用以處理生物難降解有機物，本次研究應用Fenton及Photo-Fenton程序分解含四環素水溶液，對不同反應時間點之四環素去除率以HPLC分析，比較不同操作條件，並研究最佳四環素去除率。實驗結果顯示當氧化劑劑量足夠時，反應10至20分鐘即可達到完全降解，並且Photo-Fenton系統之整體去除效率皆優於Fenton系統。光強度於Photo-Fenton程序皆呈現強度愈強其去除四環素效果愈佳之趨勢，但是並沒有太明顯的差異。四環素初始濃度影響著UV光催化氧化劑之能力，高濃度的四環素除了會產生光遮蔽效應，還會減少氧化劑與鐵離子的碰撞反應，間接導致氧化劑之催化反應受阻，使四環素之去除效率下降。pH於Fenton及Photo-Fenton系統降解四環素中扮演著重要角色，實驗結果顯示，當pH2.5上升至pH5，四環素降解率隨之提升。 |
| 關鍵字 | 高級氧化程序;過氧化氫;四環素;Fenton |
| 語言 | zh_TW |
| 收錄於 | |
| 會議性質 | 國內 |
| 校內研討會地點 | 無 |
| 研討會時間 | 20201127~20201128 |
| 通訊作者 | 黃上權 |
| 國別 | TWN |
| 公開徵稿 | |
| 出版型式 | |
| 出處 | |
| 相關連結 |
機構典藏連結 ( http://tkuir.lib.tku.edu.tw:8080/dspace/handle/987654321/119544 ) |