專利

標題 自三次元方向呈微細化幾何造型之微小結構之製造方法
學年 90
學期 1
專利開始日期 2001/10/01
專利結束日期 2001/10/01
作品名稱 自三次元方向呈微細化幾何造型之微小結構之製造方法
作品名稱(其他語言)
著者 林清彬; 康尚文; 魏茂國
單位 淡江大學機械與機電工程學系
著錄名稱、卷期、頁數
描述 專利權期間:20011011~20191123;國際分類號:C25D-001/00;專利申請號:088120501;專利公開/公告號:459071;專利國別:中華民國;專利類型:發明
摘要 一種自三次元方向呈微細化幾何造型之微小結構之製造方法,係利用一聚合物基材彼能吸收一電鑄系統所用之電鍍液之溶劑而為該溶劑所膨潤(swelling),俾將聚合物基材上所精密切割之三次元微小結構圖樣之深穴加以縮小,於電鑄后,令金屬沈積入該聚合物基材已縮小之深穴中,以達成電鑄產品之〝微細化〞,藉由選擇性之三次元方向縮小其直徑或寬度或厚度,以確實製作成超微小結構者。
關鍵字
語言 中文