研究報告
| 學年 | 94 |
|---|---|
| 學期 | 1 |
| 出版（發表）日期 | 2006-01-01 |
| 作品名稱 | 快速微影製作次微/奈米金屬模仁暨UV膠壓印成型研究 |
| 作品名稱（其他語言） | Study on Fast Lithography for Fabricating Metallic Sub-Micro/Nano-Stamps and Forming of UV Resins Using Imprinting Method |
| 著者 | 林清彬 |
| 單位 | 淡江大學機械與機電工程學系 |
| 描述 | 計畫編號：NSC95-2221-E032-034 研究期間：200608~200707 研究經費：368,000 |
| 委託單位 | 行政院國家科學委員會 |
| 摘要 | 本研究在室溫下利用沉積一層相變化材料，接著使用飛秒雷射脈衝並以光熔化引發相變化技術進行快速微影，使非結晶區產生相轉變，以製得大面積結晶區之次微/奈米不同圖案陣列；此外並探討GST薄膜之厚度、均勻性及成份分析等性質。之後利用非結晶/結晶區之不同物理及化學性質，藉由選擇性蝕刻技術，直接製得微/奈米金屬模仁，在研究中應用田口實驗計劃法來降低蝕刻實驗次數，尋找出最佳化實驗參數及探討實驗因子對微/奈米金屬模仁表面粗糙度之影響，最後以壓印技術轉印出微/奈米圖案的高分子結構。 |
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機構典藏連結 ( http://tkuir.lib.tku.edu.tw:8080/dspace/handle/987654321/7290 ) |