研究報告
| 學年 | 91 |
|---|---|
| 學期 | 1 |
| 出版（發表）日期 | 2003-01-01 |
| 作品名稱 | 奈米二氧化矽改質感光性聚亞醯胺阻劑之製備應用 |
| 作品名稱（其他語言） | The Preparation and Application of Nanoscale Silica Modified Photosensitive Polyimide Resist |
| 著者 | 張正良 |
| 單位 | 淡江大學化學工程與材料工程學系 |
| 描述 | 計畫編號：NSC92-2622-E032-003-CC3 研究期間：200306~200405 研究經費：447,000 |
| 委託單位 | 行政院國家科學委員會 |
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| 相關連結 |
機構典藏連結 ( http://tkuir.lib.tku.edu.tw:8080/dspace/handle/987654321/7027 ) |